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球芯對(duì)表面粗糙度精度要求較高:磨粒流拋光顯著提升效率

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編輯時(shí)間: 2021-10-15 16:20:53
磨粒流拋光

該球芯對(duì)表面粗糙度精度要求較高,如果按照傳統(tǒng)方法拋光,有兩個(gè)問(wèn)題:其一是拋光效果不均勻,其二是精度無(wú)法把控。而使用磨粒流拋光球芯,不僅可以顯著提升效率,還可以有效解決上述兩個(gè)問(wèn)題。

磨粒流球芯拋光

磨粒流拋光,將球芯部分置于夾具內(nèi),由高分子碳化硅或鉆石組成的半流體磨料,經(jīng)過(guò)擠壓后,會(huì)對(duì)球體部分反復(fù)充分研磨。在壓力的作用下,磨料會(huì)對(duì)球體形成完全包裹,這樣會(huì)讓拋光效果的均勻性得到保證。同時(shí),通過(guò)PLC控制拋光的時(shí)間與壓力,來(lái)調(diào)節(jié)表面粗糙度數(shù)值,以達(dá)到自己想要的標(biāo)準(zhǔn)。


拋光前球體表面粗糙度如果是0.2的話,拋光完成后,球體表面粗糙度可以達(dá)到雙0效果,通常可以達(dá)到0.05或以下。平均每個(gè)球芯的拋光時(shí)間約為20秒。當(dāng)然,選用缸徑更大的設(shè)備,拋光效率會(huì)更快,客戶可以根據(jù)自己的產(chǎn)量來(lái)核定。
我們通過(guò)一個(gè)示意圖,來(lái)觀察一下:

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