簡述流體拋光機設(shè)備的拋光盤運行模式控制：

由于四變頻電機能在加工過程快速改變拋光盤和工件的相對轉(zhuǎn)速，同時也可通過數(shù)字閥調(diào)節(jié)氣缸位置改變加工過程中的拋光壓力，所以可以突破傳統(tǒng)的拋光工藝中拋光壓力、拋光速差的限制，設(shè)計流體拋光機拋光盤運行模式，它分為啟動、預(yù)拋、粗拋、精拋、光拋、制動及變速階段。

運行模式中分階段精確變化的壓力對易碎的工件的直接作用力是很溫和的，它作用一個“輕觸”的載荷在較厚的工件上，使工件厚度開始變化。

可編程的軟起動速度控制可以防止易碎的工件搖晃，減少邊緣的破碎。軟停止的排序使上拋光盤脫離來減少或消除一直黏在上拋光盤上工件的殘余量。

根據(jù)拋光盤運行曲線的不同階段，建立了一套適合不同情況的控制規(guī)則，編寫成運行軟件控制拋光盤的運行。拋光盤轉(zhuǎn)速采用軟件預(yù)計算，在制動前流體拋光機拋光盤的速度降速為0. 42rad/s,最終位置采用12位絕對值光柵精確檢測，臨近終點時，讓拋光盤處于慣性運行，進一步降低拋光盤轉(zhuǎn)速，到達終點位置時迅速制動電機。此時拋光盤的轉(zhuǎn)速已很低，不會對工件造成大的沖擊。