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化學(xué)拋光的基本原理

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編輯時間: 2021-10-15 15:45:29
化學(xué)拋光。化學(xué)拋光的基本原理就是將需要拋光的部件放入配置好的化學(xué)藥水中,通過一定的化學(xué)反應(yīng)使需要拋光的物品表面的凸起部位腐蝕溶解消除掉,是物體表面凹凸差變小從而使表面更趨于平滑的化學(xué)反應(yīng)。,化學(xué)拋光的作用:,1:處理后的工件表面光滑細(xì)密,表面的亮度比機械拋光更好,可接受異形件,任何部件均可處理,使用工藝簡捷,效果超過電解(拋光)拋光。,2:表面機械力產(chǎn)生的硬化層被化學(xué)藥水溶解掉,產(chǎn)生的應(yīng)力消除,優(yōu)化電焊性能。,被機械切削,內(nèi)壁吸附力變小。,3:比機械拋光更好,其顯露和倒伏的毛刺可完全剔除,內(nèi)壁不產(chǎn)生電弧火花,不銹鋼配件顯示面光滑平整。,表面被鈍化,鐵元素溶解的多從表面熔解,配件表面的平整性顯著提高并賈強,增加不銹鋼弓箭表面的抗氧化性,標(biāo)面亮度,光滑性和衛(wèi)生性都可明顯踢高。,4:可達不銹鋼配件鏡面光澤,凹凸性降低,,反射能高,流動性更快。,5:表面徽觀凸起處根據(jù)拋光時間長短可減薄拋光0.01~0.04mm左右,工件表面粗糙度加大,折射度接近鏡面程度,Ra0.05um,6:可以達到整平表面,清除毛刺毛邊的作用。,7化學(xué)拋光拋光已經(jīng)打到美國標(biāo)準(zhǔn),另外XPS等檢測結(jié)果也符合半導(dǎo)體SEMI標(biāo)準(zhǔn)。,   異形工件也可以,不需要通電極,任何部位均可處理,使用方便并且公義效果優(yōu)于電解拋光。 ,蘇州斯曼克磨粒流設(shè)備有限公司是流體拋光技術(shù)用于工業(yè)實踐的先行者,主要產(chǎn)品有流體拋光機,自動拋光機,自動去毛刺機,熱能去毛刺機,擠壓研磨機等產(chǎn)品,致力于為客戶提供自動化、智能化、以及更加精密的拋光去毛刺設(shè)備!更多詳情請訪問蘇州斯曼克磨粒流設(shè)備有限公司官網(wǎng):
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